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美國*MKS流量計馬鞍山

更新時間: 2019-08-26  點擊次數(shù): 1486次

美國*MKS流量計馬鞍山


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經(jīng)營美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥,如您對該感興趣,歡迎!MKS成立于1961年,部位于美國東部波士頓以北的Wilmington。近三千名員工工作在各地十三個,七個研究中心,十個生產(chǎn)基地(其中深圳的ENI電源擁有近500員工)及140多個銷售和30多個技術服務中心。MKS前瞻性的創(chuàng)新開發(fā),推動其直處于技術地位。MKS的電源,測量,控制和復雜氣體相關的工藝監(jiān)控技術,改善了設備完率和成品率,提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和性能。MKS起源于我們的壓力測量和控制核心技術,延伸到材料遞送,氣體和薄膜成分分析,靜電荷控制,工藝控制,信息管理,電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術。MKS主要提供有:氣體壓力及流量測量和控制,射頻/直流/微波電源發(fā)生器及測量工具,氟離子/臭氧反應氣體發(fā)生器,真空,氣體分析儀,靜電控制及信息和控制技術等。
美國MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術到之處,美*機儀器MKSInstruments起源于壓力測量和控制核心技術,延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術,其廣泛地應用于各種半導體生產(chǎn)設備和過程中。MKS流量計能快速滿足客戶各種需求;美國MKS包括:美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥。
美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS控制閥。美國MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術到之處,美*機儀器MKSINSTRUMENTS起源于壓力測量和控制核心技術,延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術,其廣泛地應用于各種半導體生產(chǎn)設備和過程中。MKS流量計是以單位時間內(nèi)壓力體積的流量方式來控制氣體質(zhì)量流量的測量儀器。MKS薄膜真空計、MKS流量控制閥、MKS流量計廣泛應用在半導體行業(yè),鍍膜玻璃,醫(yī)藥制藥行業(yè),生物工程行業(yè),適合各種氣體媒介,SICL4硅烷氣體等。美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS傳感器、MKS射頻/直流/微波電源發(fā)生器MKS氟離子/臭氧反應氣體發(fā)生器MKS真空,MKS氣體分析儀。美國MKS是zui的生產(chǎn)工藝控制設備之,成立于1961年,部位于美國東部波士頓以北的Wilmington。近三千名員工工作在各地十三個,七個研究中心,十個生產(chǎn)基地。

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美*機儀器MKSINSTRUMENTS成立于1961年,作為半導體零部件的,在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術到之處,美*機儀器MKSINSTRUMENTS起源于壓力測量和控制核心技術,延伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術,其廣泛地應用于各種半導體生產(chǎn)設備和過程中。美*機儀器MKSINSTRUMENTS在的主要有AMEC、NMC、SMIC、HYNIX等,針對300MM半導體市場;而美*機儀器MKSINSTRUMENTS的半導體設備零部件的研發(fā)和也主要針對300MM半導體工藝要求。同時,美*機儀器MKSINSTRUMENTS還在積極開發(fā)太陽能、環(huán)境工程和玻璃鍍膜等快速發(fā)展的市場。美*機儀器MKSINSTRUMENTS電源、測量、控制和復雜氣體相關的工藝監(jiān)控技術等改善了設備的完率和成品率,提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和性能,美*機儀器MKSINSTRUMENTS目前主要包括:壓力測量和控制系列的電容薄膜壓力傳感器、模擬和數(shù)字壓力控制儀器和閥等提供半導體工藝上、下游壓力控制設備;質(zhì)量流量控制器測量和控制半導體工藝中各種高純度、高精度氣體流量;射頻、直流及脈沖等離子電源、匹配器及測試工具為半導體工業(yè)提供了的固態(tài)電源;ASTEXI系列提供諸如用于工藝腔清潔的ASTRON氟離子發(fā)生器,用于去膠工藝的R*EVOLUTION等離子源,用于CVD、ALD和清洗的SEMOZON氣態(tài)和LIQUOZON液態(tài)臭氧發(fā)生器;另外美*機儀器MKSINSTRUMENTS還提供廣泛的真空、氣體分析儀、靜電控制、控制及信息技術等系列。
 

 

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